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GB/T 4058-2009   硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法 (英文版)
标准编号: GB/T 4058-2009 标准状态:valid 订阅状态变动提醒
译文语言:英文 文件格式:PDF
中文字符数: 16000 字 翻译价格(元):960.0 订阅价格变动提醒
实施日期:2010-6-1 交付时间: 付款后 1 个工作日
标准编号: GB/T 4058-2009
中文名称: 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
英文名称: Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
中标分类: H80    半金属与半导体材料综合
行业分类: GB    国家标准
ICS分类: 29.045 29.045    半导体材料 29.045
发布机构: 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国家标准化管理委员会
发布日期: 2009-10-30
实施日期: 2010-6-1
标准状态: valid
替代旧标准:GB/T 4058-1995 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
翻译语言: 英文
文件格式: PDF
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