标准编号:	T/CPIA 0059-2024
中文名称:	晶体硅光伏电池用低压化学气相淀积设备
英文名称:	Low pressure chemical vapor deposition equipment used for crystalline silicon photovoltaic cells
中标分类:	H95    冶金加热、热处理设备
行业分类:	T/    团体标准
ICS分类:	27.160 27.160    太阳能工程 27.160
发布机构:	中国光伏行业协会
发布日期:	2024-03-01
实施日期:	2024-3-15
标准状态:	valid
翻译语言:	英文
文件格式:	PDF

本文件规定了晶体硅光伏电池用低压化学气相淀积设备的术语和定义、工作环境、技术要求、基本性能、检验方法、交付检验以及标志、包装、搬运和运输、贮存。
本文件适用于晶体硅光伏电池用管式LPCVD设备的生产及检验。其他类型LPCVD设备可参考使用。LPCVD设备可进行隧穿氧化层、本征多晶硅（Poly-Si）层、原位掺杂多晶硅（Poly-Si）层等的工艺制备。