SJ/T 12023-2025 英文版, SJ/T 12023-2025 半导体设备集成电路制造用化学气相淀积（CVD）设备测试方法 - SJ/T 12023-2025, SJ 12023-2025, SJT 12023-2025, SJ/T12023-2025, SJ/T 12023, SJ/T12023, SJ12023-2025, SJ 12023, SJ12023, SJT12023-2025, SJT 12023, SJT12023

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SJ/T 12023-2025 半导体设备集成电路制造用化学气相淀积（CVD）设备测试方法 (英文)
标准编号:	SJ/T 12023-2025	标准状态:	valid 订阅状态变动提醒电子邮箱:
翻译语言:	英文	实施日期:

标准编号:	SJ/T 12023-2025
中文名称:	半导体设备集成电路制造用化学气相淀积（CVD）设备测试方法
英文名称:	Semi conductor equipment — Test method of chemical vapor deposition (CVD) equipment for integrated circuit (IC) manufacturing
行业分类:	SJ 电子行业标准
发布日期:	2025-05-12
标准状态:	valid
翻译语言:	英文

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