标准编号:	GB/T 17473.6-2008
中文名称:	微电子技术用贵金属浆料测试方法 分辨率测定
英文名称:	Test methods of precious metal pastes used for microelectronics - Determination of resolution
中标分类:	H68    贵金属及其合金
行业分类:	GB    国家标准
ICS分类:	77.120.99 77.120.99    其他有色金属及其合金 77.120.99
发布机构:	中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国家标准化管理委员会
发布日期:	2008-03-31
实施日期:	2008-9-1
标准状态:	to be superseded
被新标准替代:	GB/T 17473-2025 电子浆料性能试验方法 导体浆料测试
被替代日期:	2026-5-1
作废日期:	2026-05-01
替代旧标准:	GB/T 17473.6-1998 厚膜微电子技术用贵金属浆料测试方法 分辨率测定
翻译语言:	英文

本标准代替ＧＢ／Ｔ１７４７３—１９９８ 《厚膜微电子技术用贵金属浆料测试方法》（所有部分），本标准分
为７个部分,本部分为ＧＢ／Ｔ１７４７３—２００８的第６部分。 本部分规定了微电子技术用贵金属浆料分辨率的测定方法。
本部分适用于微电子技术用贵金属浆料的分辨率测定。 本部分代替ＧＢ／Ｔ１７４７３．６—１９９８ 《厚膜微电子技术用贵金属浆料测试方法　分辨率测定》。
本部分与ＧＢ／Ｔ１７４７３．６—１９９８相比，主要有如下变动：
———将原标准名称修改为微电子技术用贵金属浆料测试方法　分辨率测定；
———增加了固化型贵金属浆料分辨率测定的内容；
———原“光刻膜丝网网径２０２５μｍ 不锈钢丝网”改为“光刻膜丝网，丝网孔径不大于５４μｍ”；
———增加６．３将印有固化型的试样按其规定的工艺要求进行静置、烘干、固化，固化后试样膜厚控制在１μｍ～１５μｍ；
———分辨率规格分级重新定义为０．１ｍｍ、０．２ｍｍ、０．３ｍｍ、０．４ｍｍ、０．５ｍｍ 五个级别。