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| GB/T 1558-2023 |
硅中代位碳含量的红外吸收测试方法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2024-7-1 |
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| GB/T 35306-2023 |
硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法 |
910.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2024-3-1 |
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| GB/T 24582-2023 |
多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法 |
910.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2024-3-1 |
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| GB/T 42274-2022 |
氮化铝材料中痕量元素（镁、镓）含量及分布的测定 二次离子质谱法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2023-4-1 |
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| GB/T 42276-2022 |
氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定 离子色谱法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2023-4-1 |
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| GB/T 42263-2022 |
硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2023-4-1 |
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| GB/T 24581-2022 |
硅单晶中III、V族杂质含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2022-10-1 |
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| GB/T 41153-2021 |
碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法 |
490.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2022-7-1 |
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| GB/T 39145-2020 |
硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2021-9-1 |
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| GB/T 39144-2020 |
氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法 |
490.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2021-9-1 |
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| GB/T 38976-2020 |
硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法 |
460.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2021-6-1 |
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| GB/T 37385-2019 |
硅中氯离子含量的测定 离子色谱法 |
290.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2020-2-1 |
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| GB/T 37211.1-2018 |
金属锗化学分析方法 第1部分：砷含量的测定 砷斑法 |
490.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2019-11-1 |
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| GB/T 37211.2-2018 |
金属锗化学分析方法 第2部分：铝、铁、铜、镍、铅、钙、镁、钴、铟、锌含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2019-11-1 |
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| GB/T 4059-2018 |
硅多晶气氛区熔基磷检验方法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2019-11-1 |
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| GB/T 37049-2018 |
电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2019-4-1 |
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| GB/T 4060-2018 |
硅多晶真空区熔基硼检验方法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2019-6-1 |
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| GB/T 1557-2018 |
硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 |
770.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
valid,,2019-6-1 |
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| GB 2143-1980 |
碲中硫量的测定(硫酸钡比浊法) |
200.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
superseded,1996-3-12,1981-10-1 |
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| YS/T 227.9-1994 |
碲中碲量的测定(重铬酸钾--硫酸亚铁铵容量法) |
200.0 |
付款后 1~3 个工作日 |
superseded,2011-3-1,1996-3-12 |
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